先進(jìn)電子材料與器件校級平臺(以下簡稱“AEMD平臺”)創(chuàng)建于2012年，是為全?？蒲泄ぷ魈峁┓?wù)的大型儀器設(shè)備校級共享平臺，具備10nm至微米級微納器件與圖形的加工與測試能。AEMD平臺在學(xué)校各級領(lǐng)導(dǎo)的大力支持下，成為相關(guān)學(xué)科依托發(fā)展的重要支撐力，同時也為科研工作提供完善的保障。 AEMD平臺分別座落于交大閔行校區(qū)微電子大樓一層(西區(qū))以及綜合實驗樓一層(東區(qū))，實驗室共有近1510m2的100級、1000級凈化室，其中100級210 m2，1000級約1300m2。除此之外，平臺還擁用近250m2非凈化測試加工區(qū)。平臺建設(shè)有一條能對硅、玻璃和有機(jī)材料進(jìn)行微納米加工的3～6英寸半導(dǎo)體級實驗線(西區(qū)實驗室)以及一條3～4英寸非硅/MEMS微納加工實驗線(東區(qū)實驗室)，部分設(shè)備可實現(xiàn)8英寸基片加工。平臺擁有電子束曝光系統(tǒng)、雙束聚焦離子束系統(tǒng)、雙面對準(zhǔn)紫外光刻機(jī)(3臺)、熱壓/紫外納米壓印系統(tǒng)、涂膠顯影系統(tǒng)(3套)、微波去膠機(jī)(3臺)、氧化擴(kuò)散爐(5管，2套)、多晶硅/氮化硅LPCVD爐(2管)、快速熱處理設(shè)備、濕法清洗刻蝕臺(12臺套)、多靶磁控濺射系統(tǒng)(4臺套)、超高真空磁控濺射系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)設(shè)備(2套)、離子束濺射機(jī)、離子束刻蝕機(jī)、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備、金屬反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備、介質(zhì)反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備、深硅刻蝕系統(tǒng)(2套)、微電鑄/電鍍系統(tǒng)、OLED器件實驗制備系統(tǒng)、基片拋磨設(shè)備、砂輪切片系統(tǒng)、場發(fā)射掃描電鏡、原子力顯微鏡、半導(dǎo)體參數(shù)測試儀(2套)、霍爾效應(yīng)儀、四探針測試儀、表面輪廓儀(3臺)、紫外膜厚儀等先進(jìn)的微納加工與測試設(shè)備，具備10nm至微米級微納器件與圖形的加工與測試能力。 AEMD平臺的創(chuàng)建提高了我校大型儀器的利用水平，并為跨學(xué)科的交叉研究、國內(nèi)外的合作提供了平臺，也為高層次的人才培養(yǎng)提供了良好的實驗基地;平臺也向社會相關(guān)科研機(jī)構(gòu)與企業(yè)公開開放，提供相關(guān)項目合作與微納加工服務(wù)?，F(xiàn)為平臺發(fā)展之需，特向社會公開招聘工程技術(shù)人員(教輔類)若干名，待遇從優(yōu)。
招聘崗位：電鍍工藝工程師
招聘人數(shù)：1 名
聘用方式
項目聘用A
招聘條件
大學(xué)本科(簡稱“大學(xué)”)及以上學(xué)歷,學(xué)士及以上學(xué)位
1、材料、化學(xué)、半導(dǎo)體等相關(guān)專業(yè)，本科以上學(xué)歷;; 2、有相關(guān)電鍍、化學(xué)及半導(dǎo)體工作經(jīng)驗者優(yōu)先考慮; 3、有較強(qiáng)的敬業(yè)精神、創(chuàng)新能力及團(tuán)隊合作能力。
崗位職責(zé)
1、負(fù)責(zé)AEMD電鍍設(shè)備的日常管理、使用及維護(hù)等; 2、負(fù)責(zé)相關(guān)設(shè)備的操作培訓(xùn)和使用管理; 3、協(xié)助AEMD電鍍相關(guān)工藝的開發(fā); 4、領(lǐng)導(dǎo)交辦的其他工藝相關(guān)研發(fā)工作。
崗位待遇
面議
其他
無
聯(lián)系方式
聯(lián)系人：021- 34207734
TEL：021- 34207734; E-mail：wangying@sjtu.edu.cn xiaojiahan@sjtu.edu.cn
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